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Janis SHI-4系列4K恒温器种类齐全，可配置各种光学附件和电学接头，满足不同实验对样品冷却的要求。真空罩底部有螺纹孔，匹配安装法兰，可方便地将恒温器固定在任意方向。标准配置的制冷机系统高温可到325K，可选配高温到500K或800K。
Janis SHI-4系列4K恒温器种类齐全，可配置各种光学附件和电学接头，满足不同实验对样品冷却的要求。真空罩底部有螺纹孔，匹配安装法兰，可方便地将恒温器固定在任意方向。标准配置的制冷机系统高温可到325K，可选配高温到500K或800K。
标准型号("X"表示制冷机的制冷功率)： SHI-4-X (光学) SHI-4T-X (非光学) SHI-4S-X (超级紧凑) SHI-4XG-X (低振动) SHI-4H-X (高温) | 标准配置 ● 光学型真空罩和防热辐射屏 ● 4 个O-ring密封石英窗 ● 镀金无氧铜OFHC样品托 ● 抽真空阀和安全阀 ● 10针电学真空接头 ● 三个备用电学引入端口 ● 硅二极管温度计和加热器 ● O-ring密封的真空外罩，方便装卸 | 可选配置 BNC、SMA或多针电学接头 增加第五个窗口 旋转真空罩 旋转台和定位台 基质隔离结构 防热辐射窗 红外或其他窗材 紧凑型或其他定制型真空罩 非光学型结构 选配500K或800K高温 |
恒温器的二级冷头直接连接样品座，通过热传导降温，适合于热导较好的薄膜等样品。
优点：降温时间快，价格优廉，可在任何方向工作。
特殊设计包括：
● 基于脉冲管的系统
● 专用于中子散射和衍射应用
SHI-4-X制冷机技术参数（含辐射热负载）：
| 技术参数 | SHI-4-2 | SHI-4-5 | SHI-4 | SHI-4-15 |
| 温度范围 | <4K to 300K | <4.5K to 325K | <4K to 325K | <4K to 325K |
| 初始降温时间 | <150 min to 5K at 50Hz | ~70 min to 4.5K | 60 min to 4K | 60 min to 4K |
| 冷头制冷功率 | 0.2W @ 4.2K | 0.5 W @ 4.2K | 1 W @ 4.2K | 1.5 W @ 4.2K |
| 恒温器质量 | 36 lb | 53 lb | 62 lb | 63 lb |
| 压缩机冷却方式 | 风冷或水冷 | 水冷 | 风冷或水冷 | 风冷或水冷 |
| *防辐射屏上带四个开口（大多数型号可选配500K或800K高温系统） | ||||
